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    在目前，duv光刻機受限于精度制程，已經無法滿足后來14nm、7nm、5nm等更高制程的需求了，這時候就需要依靠euv光刻機。

    euv光刻機采用的是一種13.5nm的極紫外光，可以在大約200平方毫米的面積下集成超過105億顆晶體管。

    用euv光刻機制造7nm級芯片，只需要曝光一次。

    在現階段，

    國產芯片僅能滿足日常生產生活的基礎要求，高端光刻機無法進入國內，高級芯片生產的困難還是很嚴峻。

    釘子如果想真正解決芯片的問題，第一件需要解決的就是光刻機精度。

    “既然不能制造光刻機，那能不能對現有的光刻機制程進行改進？”

    羅離忽然有了一個大膽的想法。

    眾所周知，光刻機的曝光分辨率與波長直接相關，隨著科技的進步，極限光源的波長也在不斷縮小，從duv光源的248nm級數不斷突破，一直來到現在的13.5nm極紫光束，進步不可謂不大。

    這也是現在芯片技術能突破個位數的根本原因。

    既然無法從其他資本手中買到高級光刻機，也無法憑空從系統中兌換，那有沒有可能通過系統的黑科技技術，將國內現有的光刻機工藝水平提升到世界水平……

    思緒至此，羅離的心跳開始加快。

    對啊，

    改裝升級的成本可比從無到有低多了，而且現在國內的芯片工藝也不算太拉胯，要是……

    羅離沒有絲毫猶豫，馬上打開系統兌換窗口，然后在搜索框中輸入文字。

    再度摒棄一系列花里胡哨的科幻風選項，羅離一口氣直接將列表拖拽到最底下。

    一行不起眼的小字出現在眼前。

    【“穩態微距束”技術：20萬積分；】

    光速瀏覽完介紹，羅離瞪大了眼睛。

    就你了！

    咬咬牙，直接選擇兌換！！

    “唰！”

    強光一閃而過。


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