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    當資本企業聯盟決定實行芯片壟斷的那一刻起，就已經堵死了所有生路，除非你能自己搞出來。

    羅離第一反應就是查閱系統。

    打開兌換列表，在一長串密密麻麻的兌換商品種，羅離找到了芯片制造相關的科技。

    排除“虛空系列”、“反物質”、“負相粒子光能”這種一聽就買不起的東西，羅離直接將列表拉到最下來。

    然后，他就看到了自己收藏夾中躺了兩個多月的3nmeuv光刻機——

    以及后面長達10厘米的“0”……

    羅離：“……”

    3nmeuv光刻機，太特么貴了！

    貴到價格只能用“厘米”來形容。

    就尼瑪離譜！

    羅離果斷放棄了，這東西絕對不是現階段可以買得起的！

    然后他將目光鎖定到5nm級別……這次是8厘米。

    淦，放棄放棄！

    然后是7nm……

    14nm……

    ……

    全部看完，羅離徹底無奈了。

    以他目前的系統積分，居然只能買得起130nm級別的光刻機！還特么是duv光源！！

    duv光刻機和euv光刻機能比？

    寒磣誰呢？

    duv光刻機大多采用的是波長為193nm級別的氟化氬準分子激光，或者波長為248nm的氟化氪準分子激光，單次曝光的極限制程在128nm到90nm之間，多次曝光雖然可以將精度提升至最高28nm，但卻是以犧牲良品率為代價！

    幾乎每重復一次曝光，損壞的幾率就增加一倍……靠duv光刻機想要造出28nm制程芯片，至少需要曝光5次以上！

    先不說你連續曝光五次最終能成功幾個，就算成功了，28nm也遠遠解決不了釘子現在的危機。

    更別提暴增的材料成本了。

    光刻工藝的核心資源是一種叫做光刻膠的化學合成劑，這東西在國內也無法制造。

    在層層壟斷下，光刻膠的進口量就那么多，其他廠商會允許你這么浪費？
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