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    相比沉浸式光刻加三重成像技術，深紫外光光刻技術能夠將金屬層的制作成本降低9%，過孔的制作成本降低28%。

    隨著制程工藝逐漸逼近極限，深紫外光光刻機的光源需要不斷地提升，鏡組的孔徑數值要更高，這些都是人類的工藝的極限挑戰。

    不過作為一個技術狂，像這樣的技術的極限挑戰卻是讓楊杰樂此不疲，要是不將這些攔在自己面前的技術困難給攻破，他是不能容忍的。

    到時候他也是很希望自己很牛掰地跟媒體說：“如果我們交不出極紫外光光刻機的的話，摩爾定律就會從此停止。”

    這個感覺才是讓感科技工作者感覺到最爽的。

    前世的時候，因為極紫外光光刻機的技術難度、需要的投資金額太高，另外兩大微影設備廠──霓虹國的尼康和佳能都是放棄開發，艾斯摩爾公司成為半導體業能否繼續沖刺下一代先進制程，開發出更省電、運算速度更快的電晶體的最后希望。

    現在楊杰是希望自己旗下的瑞星科技公司成為這個最后的希望，能夠讓國內的半導體產業繼續在這方面領先。

    如果能做到這一點，這也是他這一生當中做得最驕傲的事情之一。

    現階段來說，深紫外光光刻機的原理已經不是什么秘密，做出深紫外光光刻機的原理樣機很多公司都是能夠做到的，但是在光源、鏡組、光刻掩膜光罩、光刻機方面卻是存在著大量需要攻克的工程技術問題，但是國內外很多研究機構和公司企業對這些難關的解決方案正在研究當中，一旦將這些難題解決，極紫外光刻技術在大規模集成電路生產應用過程中就不會有原理性的技術難關了。

    楊杰深知這是個無比浩大的工程，光是靠華興集團公司也是沒辦法做到的，只能和公司的這些供應商聯手去解決了。


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