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    公司通過七八年的打磨和技術(shù)積累才達(dá)到了一個(gè)非常高的水準(zhǔn)，而且這個(gè)標(biāo)準(zhǔn)隨著制程工藝的進(jìn)步還要進(jìn)一步提高才能到達(dá)產(chǎn)品設(shè)計(jì)要求，可以說是一個(gè)沒有盡頭的道路。

    這些公司制定出來的標(biāo)準(zhǔn)才是最重要的東西，現(xiàn)在就算是其他的公司拿到所有零件也不可能模仿出來。

    楊杰對(duì)艾斯摩爾這家公司在今年也是推出類似的沉浸式光刻機(jī)產(chǎn)品來也是十分注意，這家公司在今后將是瑞星科技公司強(qiáng)勁的對(duì)手，路數(shù)跟瑞星科技公司十分相似，而且也是繞開了瑞星科技公司的技術(shù)專利，也足以證明了這家公司之前積累下來的深厚技術(shù)功底。

    何玉光此前也是向楊杰建議向艾斯摩爾公司發(fā)起專利侵權(quán)的官司，不過楊杰卻是否掉了。

    有這么一家公司來跟瑞星科技公司競(jìng)爭(zhēng)也是好事，如果這個(gè)市場(chǎng)真的只剩下一家公司后也會(huì)讓瑞星科技公司失去動(dòng)力的。

    本來市場(chǎng)就是靠著產(chǎn)品技術(shù)實(shí)力來說話，說破了大天，結(jié)果產(chǎn)品技術(shù)不行什么都是虛的。

    光刻機(jī)是昂貴的工具機(jī)，英特爾作為深紫外光光刻機(jī)的推動(dòng)者，也是早就希望光刻機(jī)制造商能夠推出這類的光刻機(jī)，但是現(xiàn)階卻是沒有一家光刻機(jī)制造商能夠量產(chǎn)，因?yàn)檫@個(gè)技術(shù)實(shí)在太難了，現(xiàn)在華興集團(tuán)公司也只是掌握了部分的技術(shù)。

    楊杰也是讓瑞星科技公司加快研制深紫外光光刻機(jī)的研發(fā)進(jìn)度，也是希望能夠在五年內(nèi)能夠讓大部分的技術(shù)變得成熟起來，至少在搶在艾斯摩爾公司之前將這套深紫外光光刻機(jī)實(shí)現(xiàn)量產(chǎn)。

    因?yàn)槌两焦饪虣C(jī)的193納米波長的氟化氬光源極限制程工藝只能達(dá)到22納米，雖然說芯片制造商能夠使用193納米氟化氬沉浸式光刻機(jī)使用多重成像技術(shù)能夠勉強(qiáng)地將制程工藝提升到16到14納米節(jié)點(diǎn)甚至能夠達(dá)到乃至10及7納米節(jié)點(diǎn)，但是這種多重曝光技術(shù)增加曝光次數(shù)，導(dǎo)致成本顯著上升，良率、產(chǎn)出大幅下降的問題。

    如果這個(gè)時(shí)候深紫外光光刻機(jī)還不能實(shí)現(xiàn)量產(chǎn)的話，那么國內(nèi)的制程工藝也就陷入了停滯狀態(tài)，這個(gè)是楊杰不希望看到的。

    他是希望在28到14納米制程工藝節(jié)點(diǎn)的時(shí)候深紫外光光刻機(jī)就能實(shí)現(xiàn)量產(chǎn)，繼續(xù)推動(dòng)制程工藝往下走下去。
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