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    什么情況......

    現在對著圖紙，依葫蘆畫瓢都搞不這定，郁悶了？

    劉林感覺到一陣無力感，所有技術參數都是現成的，也有著詳細的加工數據，又不是說加工設備不行，超級加工中心的精度要比圖紙高出幾倍。

    現在對著數據照抄啊，大哥，這樣都搞定？

    到底哪里出問題了？

    劉林揉了揉腦袋，靠在椅子上不停的思索著，這個致命缺陷，哪里出在哪？

    要知道技術攻關小組成立已有差不多一個星期了，要人給人，要設備給設備，總公司那邊不管要什么，都以最快的速度送過來！

    甚至準備加入劉林組的羅小文，也被拉進了這個臨時攻關小組，最后就連劉林也參與了進來，而結果呢，唉......。

    這段時間，劉苛他們試了一次又一次，但結果就沒不如人意，要知道劉苛等人，隨便拉一個出來，都不比華國拿著特殊曾貼的院士差。

    現在四人又加上劉林，整個玖安科技的技術大拿都參與進去了，從開始充滿希望后現在，已經充滿了絕望。

    高科技研究就是個無底洞，這句話，在此時被劉林等人表示的淋漓盡致。

    只是短短一幾天時間內，劉苛帶領的臨時攻關小組，材料，設備等等，已經花掉了接近2千萬。

    花掉就花掉了，但問題是，現在沒解決問題啊！

    這些錢等于打水漂了，如果按這樣敗下去，別說玖科技，就算國家來了，也扛不住啊。

    失敗之后，就是找出問題同總結經驗。

    但，現在問題出在哪都不知道，還解決毛問題。

    這只是等離子刻蝕機其中一個技術難點，像這樣同等難度的問題RDD離子激光儀，還有好十幾個呢，這只是RDD離子激光儀的問題，還沒算難度便大的，等離子刻蝕機和浮動光刻機呢！

    劉林想了想，伸手把放在桌子上的RDD離子激光儀的料資拿了起來。

    RDD離子激光儀，又叫等PDD激光平面刻印儀，是工業微電子中非常常用的加工設備。

    RDD離子激光儀，是干法刻蝕中最常見的一種形式，其原理是暴露在電子區域的氣體形成等離子體，由此產生的電離氣體和釋放高能電子組成的氣體，從而形成了等離子或離子，電離氣體原子通過電場加速時，會釋放足夠的力量與表面驅逐力緊緊粘合材料或蝕刻表面。

    某種程度來講，等離子清洗實質上是等離子體刻蝕的一種較輕微的情況。

    進行干式蝕刻工藝的設備包括反應室、電源、真空部分，工件送入被真空泵抽空的反應室，氣體被導入并與等離子體進行交換，等離子體在工件表面發生反應，反應的揮發性副產物被真空泵抽走。

    RDD離子激光儀實際上便是一種反應性等離子工藝，反應性激光體（RIE），順流激光體（DS），直接激光體（DP）。

    感應激光體刻蝕法（EDRT）是化學過程和物理過程共同作用的結果。

    它的基本原理是在真空低氣壓下，ED  射頻電源產生的射頻輸出到環形耦合線圈，以一定比例的混合刻蝕氣體經耦合輝光放電，產生高密度的激光，在下電極的RT  射頻作用下，這些等激光對基片表面進行轟擊，基片圖形區域的半導體材料的化學鍵被打斷，與刻蝕氣體生成揮發性物質，以氣體形式脫離基片，從真空管路被抽走。

    劉林看了看，把眉頭都皺成一團，之前因為就大概的掃了兩眼，沒詳細看，結于其難度可以說是很模糊，畢竟全部資料都是現成的，不需要設計，也不需要研發，跟著圖紙制造出來就行了！

    看來是自己想簡單了！

    劉林用手揉了揉，感覺發痛的太陽穴，吐了一口濁氣，把資料往下翻！

    劉苛等人看到劉林認真的在翻資料，便對著桌觀上的配件再一次仔細觀察，希望能找到問題出在哪。

    ED  設備主要包括預真空室、刻蝕腔、供氣系統和真空系統四部分。

    預真空室：預真空室的作用是確保刻蝕腔內維持在設定的真空度，不受外界環境（如：粉塵、水汽）的影響，將危險性氣體與潔凈廠房隔離開來，它由蓋板、機械手、傳動機構、隔離門等組成。
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