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    沒了海外發布會的事情，林云倒是輕松許多。

    林云在接下來過年之前的日子基本上都會呆在華騰半導體。

    華騰半導體才是林云最為重視的業務。

    現在的公司內部也開始了對于光刻機技術的研發，公司在這幾年也邀請了許多專業的人士進行光刻機的研發。

    光刻機的主要組成部分為光學系統和機械系統。

    光學系統其中包含著曝光光源透鏡，反射鏡等一系列的元素的硬件。

    它的功能是將掩膜板上的圖形投影到硅片上。

    而機械系統包括機械平臺運動操控系統和自動對位系統，這些系統能夠負責精確的控制硅片的位置和移動。

    同時光刻機也會根據光源的波長不同進行進一步的光源劃分。

    其中光源的劃分分為可見光，紫外光，深紫外光以及極紫外光幾大類型。

    光刻機的工作原理說起來也非常的簡單。

    曝光和顯影！

    曝光的過程是將掩膜板上的圖形通過光學系統投影到硅片。

    這個過程需要先準備好光源，通過一系列的光源能量形狀控制的手段將光束透射過畫著線路的掩膜板。

    這種控制光束的形狀大小的方式被我們俗稱為芯片制程。

    經過物鏡進行光學的誤差補償，將線路圖以等比例縮小的方式映射在硅片上面。

    接著利用化學的方式進行顯影得到硅片上的電路圖。

    這就是光刻機的使用的工作原理。

    具體來說光刻機在利用光源發出的光，通過具體的光照對圖有光刻膠的薄片曝光，光刻膠在進光之后會發生性質變化，從而使得光照上的圖形復印在薄片上。

    總體來說，光刻機的工作原理類似于照相機拍照，通過光學成像的原理將一些電路圖映射到光刻膠上從而打印到硅片上。

    光刻機生產困難的原因其實有很多。

    首先光刻機在技術難度非常的巨大。

    光刻機的生產需要極高精密度的技術和工藝水平，涉及到光學，材料學，計算機科學等多個領域。

    另外，光刻機的制造成本非常的高昂，光刻機需要大量的資金投入，涉及到各種高精密度的儀器設備的購買和維護，以及大量技術人員的聘用和培訓。

    同時光刻機也是一種高復雜的設備，需要專門的人員進行定期的維護和保養，否則會出現設備故障影影響到生產的效率。

    目前的整個全球能夠自主生產光刻機的公司也就只有三家，而這三家公司所生產的光刻機的元器件來自于全球最為頂尖的科技公司。

    這些精密的元器件的生產難度和運輸難度都非常巨大。

    目前光刻機之中最難的則是在光學變量的控制上面。

    光學投影是光刻機目前主要采用的方式。

    光刻機通過精準的光源能量和形狀控制手段，將光束透過描述的電路圖案的掩膜版，再經過物鏡修正的各種光學誤差，將電路圖以等比例的方式縮小在硅片上。

    光學投影最大的難度是要在保持較高精準度的同時提升相對的效率，就比如說你如何將光縮減到幾納米的同時也能夠精準的映射在硅片上。

    這不僅需要將光縮小，同時也要保證光擁有著足夠的亮度和能源來保證能夠在硅片上進行映射。
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