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    沒了海外發(fā)布會(huì)的事情，林云倒是輕松許多。

    林云在接下來過年之前的日子基本上都會(huì)呆在華騰半導(dǎo)體。

    華騰半導(dǎo)體才是林云最為重視的業(yè)務(wù)。

    現(xiàn)在的公司內(nèi)部也開始了對(duì)于光刻機(jī)技術(shù)的研發(fā)，公司在這幾年也邀請(qǐng)了許多專業(yè)的人士進(jìn)行光刻機(jī)的研發(fā)。

    光刻機(jī)的主要組成部分為光學(xué)系統(tǒng)和機(jī)械系統(tǒng)。

    光學(xué)系統(tǒng)其中包含著曝光光源透鏡，反射鏡等一系列的元素的硬件。

    它的功能是將掩膜板上的圖形投影到硅片上。

    而機(jī)械系統(tǒng)包括機(jī)械平臺(tái)運(yùn)動(dòng)操控系統(tǒng)和自動(dòng)對(duì)位系統(tǒng)，這些系統(tǒng)能夠負(fù)責(zé)精確的控制硅片的位置和移動(dòng)。

    同時(shí)光刻機(jī)也會(huì)根據(jù)光源的波長不同進(jìn)行進(jìn)一步的光源劃分。

    其中光源的劃分分為可見光，紫外光，深紫外光以及極紫外光幾大類型。

    光刻機(jī)的工作原理說起來也非常的簡單。

    曝光和顯影！

    曝光的過程是將掩膜板上的圖形通過光學(xué)系統(tǒng)投影到硅片。

    這個(gè)過程需要先準(zhǔn)備好光源，通過一系列的光源能量形狀控制的手段將光束透射過畫著線路的掩膜板。

    這種控制光束的形狀大小的方式被我們俗稱為芯片制程。

    經(jīng)過物鏡進(jìn)行光學(xué)的誤差補(bǔ)償，將線路圖以等比例縮小的方式映射在硅片上面。

    接著利用化學(xué)的方式進(jìn)行顯影得到硅片上的電路圖。

    這就是光刻機(jī)的使用的工作原理。

    具體來說光刻機(jī)在利用光源發(fā)出的光，通過具體的光照對(duì)圖有光刻膠的薄片曝光，光刻膠在進(jìn)光之后會(huì)發(fā)生性質(zhì)變化，從而使得光照上的圖形復(fù)印在薄片上。

    總體來說，光刻機(jī)的工作原理類似于照相機(jī)拍照，通過光學(xué)成像的原理將一些電路圖映射到光刻膠上從而打印到硅片上。

    光刻機(jī)生產(chǎn)困難的原因其實(shí)有很多。

    首先光刻機(jī)在技術(shù)難度非常的巨大。

    光刻機(jī)的生產(chǎn)需要極高精密度的技術(shù)和工藝水平，涉及到光學(xué)，材料學(xué)，計(jì)算機(jī)科學(xué)等多個(gè)領(lǐng)域。

    另外，光刻機(jī)的制造成本非常的高昂，光刻機(jī)需要大量的資金投入，涉及到各種高精密度的儀器設(shè)備的購買和維護(hù)，以及大量技術(shù)人員的聘用和培訓(xùn)。

    同時(shí)光刻機(jī)也是一種高復(fù)雜的設(shè)備，需要專門的人員進(jìn)行定期的維護(hù)和保養(yǎng)，否則會(huì)出現(xiàn)設(shè)備故障影影響到生產(chǎn)的效率。

    目前的整個(gè)全球能夠自主生產(chǎn)光刻機(jī)的公司也就只有三家，而這三家公司所生產(chǎn)的光刻機(jī)的元器件來自于全球最為頂尖的科技公司。

    這些精密的元器件的生產(chǎn)難度和運(yùn)輸難度都非常巨大。

    目前光刻機(jī)之中最難的則是在光學(xué)變量的控制上面。

    光學(xué)投影是光刻機(jī)目前主要采用的方式。

    光刻機(jī)通過精準(zhǔn)的光源能量和形狀控制手段，將光束透過描述的電路圖案的掩膜版，再經(jīng)過物鏡修正的各種光學(xué)誤差，將電路圖以等比例的方式縮小在硅片上。

    光學(xué)投影最大的難度是要在保持較高精準(zhǔn)度的同時(shí)提升相對(duì)的效率，就比如說你如何將光縮減到幾納米的同時(shí)也能夠精準(zhǔn)的映射在硅片上。

    這不僅需要將光縮小，同時(shí)也要保證光擁有著足夠的亮度和能源來保證能夠在硅片上進(jìn)行映射。
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