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    正因如此，集成電路一定要走向市場，形成產業，取得效益。集成電路產業需要資金、市場、技術、人才和政策五個方面的協同支持。國家的角色應當是產業政策的制定者和扶持者。

    芯片產業有一個特殊的地方，就是那個摩爾定律。

    根據摩爾定律：每三年芯片特征尺寸縮小三成，集成度提高4倍。或者可以表述成，每一年半到兩年的時間，芯片的集成度翻倍。

    國家直接進行，就會趕不上他的這個翻倍的速度，往往會出現國家引進，建設，生產，落后，然后只能再引進，再建設。這樣循環下去，國家也賠不起?！?。

    季宇寧知道前幾年內地關于芯片產業有一個會議。這就是那位萬老爺子主持的，還是搞全國會戰式的思路去發展芯片產業。

    但前世在80年代末以及90年代一共有三次這種類似于會戰的計劃，蕞終實際上都是失敗了，國家浪費了大量的資金和人力物力。

    “我們國家的芯片產業還有一個問題，就是巴黎的那個機構對我們的限.制。

    不過我們這兩年研究的進展很快。我知道的是去年已經突破了兩微米技術，正在搞1.5微米。

    我們在技術上突破的越快，巴黎那邊的限.制就會放寬的越快。”。

    前世在84年這個時候，國內半導體研制所能達到的蕞小精度是5微米水平，國際上已經達到了1微米以下精度。1985年巴黎的那個委員會規定5微米以下的超大規模集成電路的設備、技術和產品都是要嚴格對華夏禁限的。

    國內突破三微米水平，進入超大規模集成電路時代是在1987年。1989年將對華夏的半導體技術禁限做了更改，3微米以上的技術就不再對華夏禁了，但是3微米以下、尤其是2微米以下的技術對華夏仍然是嚴格限.制的。

    內地跨上一微米臺階是在1991年。此時國際上的微電子研發水平可以達到0.18微米。

    前世的80年代初，內地和國際的差距大概為6年，即集成度相差8倍。

    這一世內地在82年下半年得到了天上掉下來的許多餡餅，其中就有芯片技術和設備，這里面甚至有暗中拍的上萬小時的日本工程師的操作的錄像，這些都是芯片產業核心的東西。芯片產業蕞終比拼的就是制程工藝。

    這些獲得的珍貴的技術資料，大大縮短了內地微電子技術的發展時間。

    季宇寧估計如果今年能夠突破1.5微米技術，那么內地和國際上的差距，就會縮短到兩年左右的時間。


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