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    至于第三點(diǎn)，那就是潔凈室，潔凈等級(jí)要求更高，無(wú)塵車(chē)間內(nèi)的空氣要比外面干凈10000倍以上。

    第四，則是高數(shù)值孔徑的反射鏡，要求表面非常的平整。

    如果放大到華國(guó)那么大，表面的起伏度也要低于一根頭發(fā)絲。

    這幾個(gè)難點(diǎn)，是研發(fā)euv光刻機(jī)的攔路虎。

    其中，光源這些，要靠科宇光源獲得突破；反射鏡，要靠歐普光電。

    此外，就是規(guī)避專(zhuān)利了。

    整個(gè)團(tuán)隊(duì)，已經(jīng)劃分了8個(gè)組，目前主要是進(jìn)行理論設(shè)計(jì)。

    在這一方面，江成一個(gè)組一個(gè)組地進(jìn)行了交流，也聽(tīng)了下大家的一些想法。

    和聽(tīng)他們自我介紹不一樣，江成這會(huì)兒談的很仔細(xì)，對(duì)大家的一些好的想法，進(jìn)行了深入地探討，一邊交流，一邊模擬。

    對(duì)于這些研發(fā)工程師來(lái)說(shuō)，江成又一次被神話了。

    不僅哪一塊都懂，還只是聽(tīng)了聽(tīng)大家介紹，就把大部分（其實(shí)是全部）人都記下了。

    這種記憶力，真的是太過(guò)于妖孽。

    當(dāng)然這一次交流，也足足花了江成7天的時(shí)間，這才把整個(gè)研發(fā)方向，初步有了一個(gè)想法。

    那么首先，就是如果設(shè)計(jì)發(fā)出13.5nm的光。

    阿斯麥耳采用的是轟擊錫滴，但江成選擇的是另一個(gè)路徑。

    那就是利用兩束激光互相轟擊產(chǎn)出極紫外光。

    當(dāng)然，這還只是一個(gè)設(shè)想，但江成通過(guò)體內(nèi)模擬實(shí)驗(yàn)室，認(rèn)為這是一個(gè)好的方向，為此初步選定了該方案。

    至于這些激光的要求，可以根據(jù)理論設(shè)計(jì)的參數(shù)，同科宇光源具體對(duì)接溝通，讓他們生產(chǎn)研制即可。

    其次，就是反射鏡。

    和duv鏡頭不一樣的是，euv光刻機(jī)中，更多是需要反射。

    原因其實(shí)很簡(jiǎn)單，那就是13.5nm的光波長(zhǎng)，是無(wú)法透過(guò)目前用的透鏡材料，也找不到那么高透過(guò)率的材料制造透鏡。

    因此只能選擇反射。
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