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    范曉明一邊開車，一邊聽著，心里很不是滋味。

    目前國內，能夠自主可控的是制造28納米及28納米以上制程工藝的芯片。

    14納米制程工藝的芯片國內能生產，但相關設備高度依賴進口。

    至于14納米一下，國內目前無法制造。

    現在，世界上最先進的芯片制程工藝是3納米。

    14納米、7納米、5納米，再到3納米，比起國內，整整先進了四代。

    而他們這些人，以及相關的高校、機構直接跳過了前面的三代，直接研究3納米芯片制程工藝。

    相關的設備如刻蝕機、薄膜沉寂設備等等都已解決，就剩下最為核心的光刻機了。

    而光刻機中的三大難題，euv光源、雙工件臺和光學鏡頭，其中雙工件臺的難題已經解決。

    euv光源的問題，清大研制的同步輻射光源雖說極其耗能，但能用。

    最后就是光學鏡頭了。

    就他知道的專業研究光學鏡頭的團隊就超過了五個，再加上一些不知名的，參入euv光學鏡頭研究的團隊很多。

    相對來說，上嶺大學光學鏡頭研究中心走在了最前列，一旦突破離子束拋光技術，euv光刻機光學鏡頭的難題將得到解決。

    那時euv光刻機的制造不再是難題，這也意味著他們實現了彎道追趕，掌握自主可控的3納米芯片制程工藝。

    他覺得，突破離子束拋光技術的時間快了，那怕蘇哲那沒有進展，靠他們自己，再來兩輪差不多就成功了。

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