第(1/3)頁 28納米光刻機。 28納米已經是目前炎國國內光刻機的頂尖水平。 在目前全球光刻機市場中，asml、佳能以及尼康是最大的三家供應商，他們占據了全球99%的市場份額。 佳能和尼康主要生產22納米的“低端”duv光刻機，而asml大部分產品都是更高端的euv光刻機。 duv和euv實際區別就是光源，duv指“深紫外線”，euv指“極深紫外線”，聽名字就能感覺到euv技術更加牛逼。 確實也是如此，duv光刻機的光源波長為193納米，euv光源波長為13.5納米，而且euv光源并非地球上天然存在的光線，需要特定的技術和設備才能夠制造出來的。 在光源波長越短，折射率越大，能量越大的原理下，光源波長為193納米的duv光源一般只能實現25納米制程，iorg憑借工作臺模式做到了10納米，但后續再也無法突破10納米。 太積電也強行用duv光源生產過第一代7納米芯片，但是是通過duv多重曝光實現的，不但工藝復雜，良品率低，其實上所謂的7納米還有很大水分，太積電也是在第二代7納米芯片的時候就全面換成euv光源了。 也就是說，duv光源做做28納米、56納米的制程還行，但涉及7納米、5納米，duv幾乎沒戲，只能靠euv技術。 而現在全球范圍內，能生產euv光刻機的供應商，全球只有asml一家！ 毫不夸張的說，asml憑借euv技術徹底壟斷了全球中高端光刻機市場，根據最新一年的銷售額來看，asml的光刻機占據91%的市場份額，尼康6%，佳能僅僅3%。 鳳凰集團這臺產自炎國滬市微電子（smee）的28納米光刻機當然也只是duv光源，不過哪怕是“低端”的duv技術，也是非常難得了。 實際上，雖然目前滬市微電子廠已經實現28納米光刻機量產，但一直受限于產能，每年產能也就兩三臺，在鳳凰集團之前總共只有三家企業拿到了微電子生產的國產28納米光刻機，鳳凰算是在高領資本運作下，才順利優先拿到28納米光刻機。 胡來心里已經十分滿足。 鳳凰即將擁有了屬于自己的28納米光刻機，雖然制程不算太先進，但只要28納米光刻機能成功安裝生產，鳳凰半導體就真正成為一家集設計、制造、封裝測試到銷售的垂直整合半導體公司！ 這樣的idm模式無疑對整個鳳凰集團的芯片安全都豎起了強力保障！ …… 美洲國的消息開始擴散開來。 接下來的時間，網絡上因為美洲國撕破臉皮的威脅禁令又一次引發了全民討論，這一次處于旋渦之中的鳳凰集團并沒有再次發聲。 此時的胡來，已經全身心投入了微電子廠運送過來的28納米光刻機的安裝調試中，等他親自參與光刻機配套安裝項目后才真正體會到光刻機為什么是半導體工業皇冠上的明珠。 滬市微電子廠非常專業，半年前確定了鳳凰光刻機訂單后，就提前半年通知鳳凰集團為光刻機廠房做相應準備。 整個停放光刻機的廠房被特意加固了所有地基，甚至特別的地方還做了懸空處理，這樣的目的就是因為光刻機對震動非常敏感，輕微的震動都會引發光源錯誤，導致一批次的晶圓全部報廢。 不僅是地基的穩定性，光刻機生產的廠房所有燈光都有指定要求，不能使用我們平常使用的白光，而是需要使用波長較長的黃色光源。 因為光刻膠對短光非常敏感，所以用長波長的黃色光源的話，對于晶圓制造來說就如同關燈作業，原理就如同沖膠卷曝光一樣。 除去這些，光刻機生產廠房還對空氣質量有特別高的要求，空氣質量需要達到iso 1級或者2級的水準，這樣的空氣質量比醫用手術室的空氣環境要求要干凈一萬倍…… 要達到這樣的要求，就必須大量使用先進的全自動化機械操作和高效的風機過濾機組進行24小時無間斷的換氣和過濾。 除去這些苛刻要求，更讓胡來感嘆的，還有光刻機高達三萬多個零部件和制造光源所需要的強大電力消耗…… 不過。 好在滬市微電子廠雖然只是光刻機廠商，但對于光刻機的整套配套還是準備充足。 雖然諸如工廠的風機過濾機組（ffu）和過濾濾芯暫時無法國產，諸如國產光刻膠效果不盡人意等等，但在微電子的私下幫助下，鳳凰28納米光刻機的組裝和相關配套還是有條不紊的完成了。 用滬市微電子負責項目的經理話說，第一批配套的設備和材料，微電子廠能想辦法暗地里幫忙，但真正等鳳凰半導體投入生產后，后續諸如過濾濾芯的更換升級、光刻膠材料的來源就是鳳凰自己內部的事情了。 胡來已經非常滿意了。 光刻膠再難、風機過濾機組、濾芯再難能難得過光刻機？只要解決了光刻機這個最難的問題，那其他配套都是時間問題！ 很快。 由滬市微電子廠提供的28納米光刻機正式落戶鳳凰半導體，鳳凰半導體也開始了真正擁有生產芯片的能力。 大量引進先進芯片人員的同時，針對28納米光刻機配套產業鏈的攻關也悄然在鳳凰集團內部開啟…… 第(1/3)頁