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    等林本建出來，三人邊吃邊聊，衛向東正式向林本建發出邀請，希望他到大陸繼續研究紫外光（euv）光刻，將來在眾芯科技專門成立一個部門由他負責，同樣可以給予眾芯科技的股份。

    “林先生，如果你還有什么要求，我們都可以談。”衛向東的態度很誠懇。

    林本建沉默了下開口說道：“衛先生，或許你不清楚，研發13.4納米的極紫外光（euv）遙不可及而且耗費巨大，現在光刻機還卡在193納米這個這個階段。”

    “我知道，極紫外光（euv）是光刻機發展的未來，而193納米這道坎終將會被邁過。”衛向東笑回答道。

    林本建聽了笑了起來：“衛先生，你是個局外人，竟然比我們這些局內人還充滿自信？”

    “或許正是因為我是個局外人，所以和你看問題角度不同，光刻機停留在193納米已經好幾年了吧？所謂厚積薄發該到突破的時候。不是有一種叫什么浸潤式光刻嗎？我看那個法子就行。”衛向東說道。

    “浸潤式光刻？衛先生你也認為浸潤式可行？！”林本建的聲音突然變得激動起來。

    不是我認為行，是因為歷史最后證明這個法子行！

    衛向東實在不明白這個林本建為何如此激動，旁邊的張如京才告訴他，在80年代末期，林本建就提出隨著芯片精度越來越高，光刻機的精度最終會遇到瓶頸，可以用浸潤式原理解決這個問題。

    不過當時業界正要準備1000    納米的量產，后來林本建又幫ibm解決兩個世代以后的技術，也就是500納米；那時還有很多方法可用，不需要浸潤式這種頗為復雜的辦法。

    直到九十年代初期，光刻機的研發卡到了193納米，包括ibm、佳能等大型公司，都是朝著研發干式157nm光刻機的道路奮力前進，根本沒有理睬到林本建的這個冷門的浸潤式！這讓他很是沮喪。

    所以，今天從一個外行嘴里說出看好浸潤時，林本建感到有些激動。

    “衛先生，你怎么認為浸潤式辦法可行，如何液體穿透率不高問題？”

    面對林本建急切的發問，衛向東愣住了。

    我懂個屁啊......

    我只不過是穿越前在網上無聊時候看過一些這樣的文章，知道幾個術語而已何況又過去了這么多年？

    哎.....
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