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    目前，阿斯麥爾的光刻機已經進入了euv（極紫外光）光刻系統，去年，剛剛發售第二代euv系統，nxe：3300b。

    已經可以一次曝光做到22nm以內的工藝制程，當然它的價格超過了2億米元。

    江成前世對光刻這產業并不熟悉，目前還是在深入研究過程中。

    當然，他越了解，越覺得這個公司是整個產業鏈（西方）供起了來的。

    德國的鏡頭，日國的材料，米國的光源……

    但目前華國的水平卻依舊落后。

    整個國產光刻機，只有魔都微電子做得稍微好一些，但目前主要針對封裝光刻機。

    去年8月，剛剛發布了am-oledtft電路制造的ssb225/10，但分辨率只有2uml/s，精度0.6um，也就是600nm制程。ъìqυgΕtv.℃ǒΜ

    制程落后，良品率也不行。

    而部件中最為重要的鏡頭部件，江成目前只看到有常春光機所在持續研發；至于雙工作臺部件，目前水木大學精密儀器儀正在研發。

    此外，據說剛剛成立不久的起爾機電，將在流體凈化和測控，也就是浸沒式系統方面進行發力。

    多數仍是在實驗中研發，還沒有形成商用可能。

    更不提光刻膠、光刻氣體、光掩模版、光刻機缺陷檢測設備、涂膠顯影設備這些材料、設備了。

    難！真的是太難了！

    這些天里頭，雖然江成全身心地在體內模擬實驗室里頭，進行了深入的分析和模擬實驗。

    但對于這款制程落后的光刻機，他仍舊非常不熟悉。

    這種不熟悉，是因為江成他，看不懂。

    需要光學、機械、材料、自動化、計算機軟硬件等諸多專業知識。

    江成目前僅對計算機軟件更熟悉一些，硬件這塊都還準備跟著徐偉教授學習，至于其他方向，那真不是他有精力去鉆研了。

    當然，后面學有余力的時候，涉獵一二倒是可以。

    暫時收起了研發光刻機的沖動，又是新的一個學期了，江成必須開啟新的學習和研發進程。

    學習上，在繼續深入多維脈沖神經網絡結構之外，還需要學習半導體硬件相關知識。

    而研發上，江成需要主攻soc芯片，以及牽頭eda軟件設計研發。

    不過，新學期一開始，江成便被羅瑞華教授叫到了辦公室。

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