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    以格立為首的國內廠商，在家電行業掀起的腥風血雨尚未徹底消散，另外兩則來自國內的消息，又先后引發了行業的震動。

    而這兩個行業，自然是楊明布局已久的光刻機以及內存條行業。

    92年八月，在剛剛由精密研究所正式更名為華榮高科的當天，董事長任繼憲方面宣布了一條消息。

    那就是經過足足七年的努力，華榮高科不但已經攻克了165納米這個困擾芯片光刻技術多年的極限點，而且一下將光刻精度提升到了60納米！

    聽到這個消息，國內很多科學方面的專家就第一個跳出來表示這不可能。

    畢竟別說據他們所知，即便是如如西門子，高通等等國際光刻巨頭，目前都仍舊卡在165納米關口這點，就說技術規律……

    即便攻克了165納米，納米接下來按理也該攻克140納米，115納米……

    循序漸進。

    一下就將精度提升一百多納米，達到60納米……

    這簡直不科學！

    也是因此，不知道多少科學家聯名上書，要求華榮高科公布相關論文，以證實技術的切實性。

    山呼海嘯般的質疑和呼吁，不但讓華榮高科方面承受著巨大的壓力。

    同時更讓不知道多少對楊明心懷不滿之人暗自幸災樂禍，心說讓你丫狂，現在倒血霉了吧？

    但自始至終，楊明都不為所動。

    畢竟科研這東西，只要掌握好節奏，有時候快一步，那就能步步快！

    而且華榮之所以能攻克光刻165納米的極限，靠的也不是什么技術革新，單純就是在原深紫外光技術上做了一點小改進。

    采用了浸入式曝光而已！

    一旦公布相關論文，內行人瞄上一眼，怕都能直接破解。

    到時候說不定一夜之間，全世界的光刻廠商都能將光刻精度從165納米提升到60納米……

    好不容易才攢了一點點領先優勢，就因為一點質疑就公布，這種蠢事楊明可不會干。

    好不容易才抓到楊明的一點漏洞，想借此機會將楊明一棍子打死的家伙，可不會因為楊明的不回應而善罷甘休。

    某天。
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