第(3/3)頁

    所謂晶元或者芯片，就是將原本要實現某個產品功能的無數元器件，通過技術集中到了一起的產品。

    雖說將無數元器件的功能集中在一起，實實現了更小更輕，功能更多的目標……

    但想要讓它發揮作用，卻依舊要靠電路來完成。

    所謂光刻，就是在這或許指甲蓋大，但融合了幾十幾百甚至幾千個電子元件功能的模塊中刻畫電路，從而讓其發揮作用的過程。

    單個器件集成的電子元器件越多，能耗越小，最終形成的產品便能越小越輕便，也越能擁有更多的功能——而想要達到這樣的目的，就得更尖端的光刻機。

    畢竟只有納米數越小的光刻機，才能在同等體積的芯片或者是晶元上堆疊更多鏈接電子元器件，并極大的降低能耗。（芯片和晶元中的線路不是平面的，而是靠堆疊來完成。）

    光刻機一幫是由光源，均勻照明系統、投影物鏡系統、機械及控制系統(包括工件臺、掩膜臺、硅片傳輸系統等構成。

    按照張學東馮長宇祁同文等人的說法，國產光刻機，比如已經交付華芯進行使用的分步式光刻機，雖說對比國外最先進產品，在技術方面依舊有差距，不過這個差距并不是太大，更不存在代差……

    畢竟大家都采用的都是同等理念，分步式投影。

    唯一的差別，或許也就是光源了。

    聽到此處，從頭到尾一直都沒怎么說話的光學投影專家，長光所的龔建亮終于開口了。

    他表示長光所在最近的研究中有一些心得，表示經過研究，如果能用放電汞燈輻射紫外光，應該有希望進一步的降低光源波長，將現在正在應用的高壓放電汞燈的光源從極限的365納米，成功降低到250納米！

    “這是真的嗎？”

    聽到這話，無論是張學東任繼憲還是馮長宇都興奮不已，同時也有些悻悻，埋怨龔建亮怎么不早說……

    畢竟近年雖然已經傳出西方在光刻機方面的研究，其實已經早就突破了微米級，已經在向納米級發展，但終究還沒有實際產品出來。

    要長光所能早點告訴大家這個成果，自己盡早將其進行在光刻機上應用，國產光刻機的技術指標那可就能和西方最先進光刻機的技術指標并駕齊驅了！

    雖然只是暫時性的，但總算是追上過不是？


    第(3/3)頁