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    聶教授非常鄭重的表示。

    “剛開始是很容易，到以后就越來越難了。”

    正如潘大江所說的。

    “越是濃縮的，就越是精華。”

    以后的芯片肯定會越來越小，密度越來越高，這就對光刻機的要求越來越嚴格。

    最近幾年，不斷挑戰物理學極限的半導體光刻機，大有挑戰明珠之王的趨勢。

    航發是在極端高溫高壓下挑戰材料和能量密度的極限。

    而光刻機是在比頭發絲還細千倍的地方挑戰激光波長和量子隧穿的極限。

    兩者都有相似的地方，都有不可逾越的鴻溝，但只要資金到位，人才到位，一切困難都能克服。

    趁著島國半導體和光刻機行業發展的瓶頸和頹勢，姜余準備一舉彎道反超。

    人工智能通過這兩款光刻機的設計圖紙，重新進行了技術改良和大范圍的優化，形成了擁有自主知識產權的光刻機。

    這臺全新的光刻機，不能說是最先進的，但比起島國的技術，優勢還是非常明顯的。

    它采用了    193nm    的    arf（氟化氬）準分子激光作為光源，波長193納米，可以實現65nm到800nm的芯片工藝制程。

    它可以實現20寸、12英寸、8英寸晶元投射制作。

    除了支持硅晶圓之外，它還支持其他化合物半導體，例如氮化鎵和碳化硅。

    它的生產效率比起島國的最先進的光刻機還提升了25%。

    像這樣的光刻機，聶教授也只花了半年時間，就做出了成品。

    有現成的設計圖紙，有高端的機械制造能力，要實現并不難。

    至于那些光學鏡頭，阿飛趁著空閑的時間，給他們制造了1000多組，夠他們用很久了。

    聶教授為了吸引更多的人才回國組建完整的半導體工業體系，特意要求臺積電并入了樺國第一芯片集團。

    臺島這方面的人才特別多，尤其在硅谷的華人，更是數不勝數。

    他希望臺積電能夠通過自己的影響力，召集更多華人歸來建設屬于樺國的硅谷……

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