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    這個也是楊杰為什么特意讓現在七條線站專門留兩天線站來專門用于生命科學和醫藥研究的原因。

    楊杰跟滕教授暢談了一番，這才來到華興集團公司旗下半導體材料的子公司的一間控制室。

    看到楊杰過來，這些技術人員都是激動地站起身來打招呼。

    “楊少……”

    “大家都不要這么拘謹，我就是過來了解一下你們的實驗進度。”

    楊杰笑著說道。

    “楊少，也是多虧現在我們自己有了這么一套光源設施來進行實驗，不然我們在光刻膠方面的研發進度耽擱的時間就太長了。”

    帶領技術團隊的黃明成博士感慨地說道，他加入華興集團公司有九年了，一直都是負責光刻機的研發，這次自然也是承擔了極紫外光光刻膠的研發任務。

    光刻技術隨著集成電路集成度的提升而不斷發展，為了滿足集成電路對密度和集成度水平的更高要求，半導體用光刻膠通過不斷縮短曝光波長以提高極限分辨率，世界芯片工藝水平目前已跨入微納米級別，光刻膠的波長由紫外寬譜逐步提升到了g線、i線、氟化氪、氟化氬、f2，國外現在能夠做到的f2光源波長在157納米，同時業發展出了相應的光刻膠。

    半導體材料公司光刻膠技術部門也是從i線光刻膠開始的，通過霓虹國設置在呂宋國的光刻膠工廠得到了工藝資料后楊杰也是找到了黃明超等在做光刻膠的技術人員摸索出了i線光刻膠的配方，之后開始自主研發氟化氪、氟化氬光源的光刻膠。

    不過楊杰并沒有讓f2光源的光刻膠，而是直接讓他們研發極紫外光的光刻膠。

    通過數年的研發，黃明超等技術團隊此時已經研發出了極紫外光的光刻膠，可是因為沒有合適的光源來做實驗驗證，去鷹醬的國家實驗室去做實驗的話等的時間太長了。

    這次神光光源設施試運行，技術團隊也是向總部第一個遞交了申請，楊杰也是同意了下來。
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