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    提問環節結束后，楊杰也是在旁邊的一間會議室里面跟來自英特爾的一位副總裁見了面。

    “楊先生，我希望貴公司能夠加快g1光刻機的產能，到明年年中能夠向我們公司提供十臺g1光刻機?！?

    這位副總裁開口說道。

    現在艾斯摩爾、佳能、尼康采用的是19納米干式光刻技術，但在65納米技術節點上遇到了困難，試驗了很多技術都無法很好的突破這一難題。

    瑞星科技公司一開始就在浸沒式光刻技術上進行布局，搗鼓了差不多有五年多，到2002年底浸入式技術完全成熟了。

    此前業界并沒有認為浸入式技術有如此大的功效，這種技術利用在原來的193納米波長光源干光刻技術平臺之上，配合現有的光刻技術變動不大，獲得了晶圓廠的極大贊賞。

    而且瑞星科技公司這套光刻機的售價控制在了四千萬美金左右，比起艾斯摩爾好尼康以及佳能的光刻機的價格相當。

    更關鍵的是瑞星的技術團隊在楊杰的高標準要求下這些年拿出了愚公搬山的精神來一點一點的將遇到的工程技術問題給解決掉了，這也讓瑞星科技公司的光刻機很少出現問題，性能非常穩定。

    尤其是這兩年采用了人工智能的視覺系統芯片后，光刻機的智能化程度得到了很多的提高，控制系統在工作過程中會主動地進行微調，跟蹤判定的能力非常強，極少出錯，并且能夠主動地提示設備故障發生的部件和原因，并且做到了掃描和刻蝕的同步。

    正是如此，瑞星科技公司推出的第三代光刻機做到了世界領先的程度，在浸沒式光刻技術上超出了艾斯摩爾和尼康公司一大截。

    現在艾斯摩爾和尼康也都是在浸沒式光刻技術上進行研發，不過從得到的情報來說，這兩家公司要想在這方面成熟至少還需要三年以上的時間。

    也就是說現階段只有瑞星科技公司能生產提供浸沒式光刻機設備，晶圓廠要想生產更先進制程工藝只能是從楊杰的公司這里拿貨。

    現在瑞星科技公司的光是光刻機的訂單數量已經達到了234臺，如果加上刻蝕機和離子蒸鍍設備等，今年的營收預計能夠達到160億美金。

    瑞星科技公司能夠在七年多的時間里面達到這樣的營收已經是非常驚人的成就了，關鍵是這些設備是半導體的最核心的設備，可不是隨隨便便哪個國家和公司能夠替代得了的。


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