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    華興集團公司六年多前就開始涉足光刻機，何玉光和席海清數位專家在楊杰的帶領下一開始是進行仿造和組裝，隨后是幾乎孤注一擲地研發浸沒式步進掃描投影光刻機，隨著華興集團公司在超精密機制造技術、光學技術上和其他方面的全面進步，瑞星科技公司在氟化氬準分子光源的浸沒式步進掃描投影光刻機上面終于是技術成熟了。

    瑞星科技公司在雙工件臺浸沒式步進掃描光刻機研發過程中是申請了大量的技術專利。

    這些技術專利就包括了瑞星科技公司的獨家懸浮工件臺系統，使得系統能克服摩擦系數和阻尼系數，加工速度和精度是超越機械式和氣浮式工件臺的。

    瑞星科技公司雙工件臺系統做出來的時間比艾斯摩爾公司還要提前一年，兩家在這方面的技術路線很相似，這方面兩家都算是做到了世界一流。

    這些年何玉光帶領著技術隊伍一點點將浸沒式光刻機大量的技術工程難題一個個的攻克了，申請了大量的技術專利，基本上將其他公司進入浸沒式光刻機的技術道路給堵死了，也培養出了一支數百人的核心技術團隊。

    艾斯摩爾公司和佳能、尼康等公司看到瑞星科技公司申請了這么多的技術專利，要想繞過去是非常困難的，這些公司也是努力地研發波長在157納米光源的設備。

    不過艾斯摩爾推出157納米光源的干式光刻機最大制程工藝只能做到70納米，而瑞星科技公司推推出的氟化氬光源光刻機極限制程工藝可以做到28納米！

    中晶微和華越電子公是最先拿到這種浸沒式光刻機的晶圓廠，幾乎是同時成功流片出了65納米制程工藝的處理器芯片！

    而英特爾和德州儀器和一些a國的晶圓廠今年制程工藝全都卡在了65納米，艾斯摩爾、佳能、尼康這些公司都是遲遲不能推出更先進制程工藝的光刻機，看樣子至少還需要兩三年的時間！

    這一下子所有的晶圓廠都慌神了。

    半導體芯片產業可是a國最核心關鍵的產業，這時候突然之間在制程工藝上被人追上了，而且在最關鍵的光刻機設備上掉鏈子了！

    無比震驚的a國這些芯片公司就算是心中有一萬個不愿意，卻是發現現在只有瑞星科技公司能提供更先進制程工藝的光刻機！

    想想之前a國這些官員和國會議員還用這些半導體設備卡華夏國的脖子呢，現在卻是突然發現自己的制程工藝竟然要依靠華夏國來提供了，這個身份地位的轉變簡直讓很多人都要抓狂了！

    英特爾等公司和軍政界的官員聚在一起也是進行了激烈的討論，此時赫然發現他們已經是沒辦法用聯合縱橫的的手段來弄死這個瑞星科技公司——
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