第(1/3)頁

    EUV光源的技術基本只掌握在花旗國    Cymer公司手中，星光科技公司作為一家華夏公司，基本上不可能與対方達成技術合作，因為花旗國政府，就不會同意。

    EUV光刻機——頂級科學與頂級制造的結合。

    EUV波長只有13.5nm，穿透物體時散射吸收強度較大，這使得光刻機的光源功率要求極高，此外機器內部需是真空環境，避免空氣對EUV的吸收，透鏡和反射鏡系統也極致精密，配套的抗蝕劑和防護膜的良品率也需要更先進技術去提升。

    一臺EUV光刻機重達180噸，超過10萬個零件，需要40個集裝箱運輸，安裝調試都要超過一年時間。總之，EUV光刻機幾乎逼近物理學、材料學以及精密制造的極限。

    所以EUV不僅是頂級科學的研究，也是頂級精密制造的學問。

    二零一零年首發EUV光刻機，目前成為全球唯一一家EUV光刻機供應商。

    二零一零年，阿斯慢首次發售概念性的EUV光刻系統NXW:3100，從而開啟光刻系統的新時代。

    二零一三年，阿斯慢發售第二代EUV系統NXE:3300B，但是精度與效率不具備10納米以下制程的生產效益。

    今年又推出了第三代EUV系統NXE:3350，但仍然只是試產的性質。

    歷史上，阿斯慢公司要到明年，也就是二零一六年，第一批面向制造的EUV系統NXE:3400B，才會開始批量發售，

    NXE:3400B的光學與機電系統的技術有所突破，極紫外光源的波長縮短至13nm，每小時處理晶圓125片，或每天可1500片。

    連續4周的平均生產良率可達80%，兼具高生產率與高精度。

    三年后推出的NXE:3400C，更是將產能提高到每小時處理晶圓175片。

    目前，阿斯慢在售的EUV光刻機包括NXE:3300B和NXE:3400C兩種機型。

    EUV成功來源于阿斯慢光刻機上游產業鏈的貫通。
    第(1/3)頁