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    為什么波長在10納米以下的x射線光刻機，最后被極紫外光（euv）淘汰?

    原因有兩個，一是效率問題，x射線照射下光刻膠的光刻速度比較慢；二是精確度問題，為什么說波長10納米以下的x射線，光刻精度差?因為掩模做不到10納米以下。

    掩模就是電路圖的母板，為什么極紫外光（euv）的精度高，原因在于紫外光可以使用凸透鏡縮小從掩模過來的光線，而所有人都知道x射線的穿透力非常強，凸透鏡根本無法聚焦。

    所以x射線光刻機被淘汰了。

    市面上沒有x射線光刻機，也就意味著沒有客戶。

    “這個問題不是問題。”

    “社長沒有客戶的話……”

    黃明哲打斷了馬知力：“知道x射線光刻機為什么被淘汰嗎?”

    馬知力點了點頭。

    “效率問題在于光刻膠的光敏性，如果我們研發一種可以在幾秒鐘內完成光刻的x射線光刻膠，那效率還是問題嗎?”黃明哲反問道。

    “嗯?”馬知力一愣。

    確實如同黃明哲說的那樣，光刻效率問題其實就是光刻膠光敏性的影響，歸根結底就是材料問題，而材料問題不恰恰就是思維社的強項?

    “至于凸透鏡無法聚焦x射線，我們為什么不制造一種可以聚焦x射線的凸透鏡，這個同樣是凸透鏡材料的光敏性，材料可以改變一切。”黃明哲笑著提醒道。

    “對啊！我怎么沒有想到?”馬知力頓時瞪大眼睛。

    其他人頓時也呼吸急促起來，如果他們解決了光刻膠和凸透鏡的光敏性，豈不是相當于完成了x射線光刻機的缺點彌補。

    而x射線光刻機的先天性優勢，就是發散性低、光線集中、波長短小精悍。

    “我們要完成一個獨立自主的光刻機系統，就不能按部就班走西方人的老路，不然永遠無法超越對方。”黃明哲說道。

    這個問題其實就是國內光刻機行業發展的攔路虎，按照西方人的路線走，別人的專利怎么繞過去?

    另外光刻機的市場非常小，全世界來來去去就那么多家芯片制造企業，阿斯麥公司和這些芯片制造企業的關系千絲萬縷，哪怕是造出來，估計也賣不出去。

    “社長，我們馬上安排材料計算，一定拿下x射線光刻膠和x射線凸透鏡。”馬知力堅定的說道。

    “注意休息，身體是革命的本錢。”黃明哲關心的說道。

    “多謝社長關心，我一定注意。”
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