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    老板工作間。

    一個又一個的零件被打磨了出來。

    得心應手地操控著小黑，工業加工方面，衛明不斷創造出精度的極限。

    只要先制造出一批精確度達到0.1納米的“尺子”。

    再根據這些尺子，加工所需要的零件，建立一套可以參考對照的精準體系。

    如果出現累積誤差，就手動修正一番，讓整體的誤差范圍不會超過1納米。

    甚至衛明會親自參與到耗費時間極多的“組裝”過程中，利用小黑的掃描半徑，其他操作手至少得半小時才能裝好的一個零件，他3分鐘內就能實現精確安裝。

    并且修正了許多地方的安裝誤差。

    讓系統的穩定性大大提高。

    讓13個精確的子系統，逐漸變成了一個能進行精確聯動的大系統。

    于是接下來的半個月。

    光刻機研發部，刷新了一個又一個數據記錄，每天都有爆發般的歡呼，從廠房里發出。

    “錫滴釋放頻率每秒5萬次，持續工作33分27秒。”

    “每秒5萬次，持續工作38分15秒！”

    “每秒5萬次，持續工作47分48秒！”

    “每秒5萬次，持續工作59分52秒……接近一個小時，光源系統磨合到完美程度，這是不可能被超越的一個極限！”

    不過還有一個極限，不是不能突破。

    “既然我們的光源系統穩定性這么高，索性，我們不做復雜麻煩的‘糾偏系統’算了，再往里面加入一組光源，構成‘雙光源系統’，光刻機正常使用的情況下，只讓一組光源進行工作，每次工作半個小時，另一組光源進入休息調整狀態，半小時后接替工作，輪流換班，減少累積誤差。”

    “此外這臺機器還有一個‘狂暴模式’，那就是讓兩套光源系統，同時投入工作，每秒10萬粒的錫滴，20萬次的擊打，產生超過1250瓦強度的極紫外光，這個光強是艾思邁光刻機250瓦的5倍之高，比普通duv光刻能量也強悍的多。”

    “狂暴模式下，這臺光刻機每小時至少能處理600片以上的晶圓，艾思邁只能處理125片，我們的效率能高四五倍！”

    “而且能量越高，光刻出的清晰度、銳利度也越高，這能明顯提高芯片的質量和良率，減少多重曝光的次數，更容易實現3納米芯片的制造，幫助我們從開始的7納米，越過中間的5納米，快速過渡到最新的3納米，實現跳躍式的發展！”

    蒲偉才的技術團隊中，一位名叫羅聰的研究員，提出了一個叫“狂暴模式”的構想。
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