第(1/3)頁(yè)

    “陳總，這臺(tái)就是我們研發(fā)出來的浸潤(rùn)式光刻機(jī)。這一臺(tái)光刻機(jī)打破了傳統(tǒng)的干式光刻理論，采用濕式以水為媒介，從而讓制程大幅度的進(jìn)行了提升。雖然我們目前的制程水平是在100納米左右，但我們隨時(shí)可以進(jìn)入到65納米行例。”

    “也就是說，一但我們的浸潤(rùn)式光刻機(jī)上馬，我們的技術(shù)水平將可以和asml比肩。同時(shí)，我們也能生產(chǎn)出目前最為頂尖的芯片。”

    中心國(guó)際一處秘密研究基地，林本堅(jiān)興奮的向陳宇做著介紹。

    “好，很好。”

    看著眼前這一臺(tái)光刻機(jī)，陳宇同樣的有些激動(dòng)。

    前世，國(guó)人不知道為這樣的一臺(tái)光刻機(jī)奮斗了多久。

    當(dāng)然。

    這倒不是說前世國(guó)人做不出光刻機(jī)。

    其實(shí)光刻機(jī)技術(shù)國(guó)人是掌握的，但要做出達(dá)到全球頂尖制程的光刻機(jī)，那就不是那么容易的事了。

    截止到2021年，前世國(guó)內(nèi)最為頂尖的光刻機(jī)制程僅僅只達(dá)到90納米。

    但asml已經(jīng)達(dá)到5納米，3納米，甚至往2納米方向進(jìn)軍。

    這是幾十倍的差距。

    同樣也是幾代水平的差距。

    真按這樣的差距進(jìn)行追趕，恐怕得100年。

    幸好。

    早在之前陳宇就從臺(tái)積電挖腳了林本堅(jiān)。

    在他的濕式光刻理論的幫助之下，全球第一臺(tái)浸潤(rùn)式光刻機(jī)就此誕生。

    “陳總，這臺(tái)光刻機(jī)還不是我們最為先進(jìn)的，在濕式光刻理論的支持之下，我們的制程在未來還可以大幅度的進(jìn)行提高。目前全球最高制程水平是65納米，這已經(jīng)很難再進(jìn)步了。但我們卻才剛剛開始，未來我們將進(jìn)入45納米，28納米，20納米，10納米，甚至是7納米之例……”

    說到技術(shù)，林本堅(jiān)卻是滔滔不絕。

    對(duì)于他來說，能將自己的理論得已實(shí)現(xiàn)，這是最為激動(dòng)人心的事。

    而且他知道，一但他們的光刻機(jī)上馬，他將改變?nèi)蛐酒倪M(jìn)程，甚至改變?nèi)虬雽?dǎo)體行業(yè)的格局。

    “林總工，辛苦了。”

    陳宇雙手握住林本堅(jiān)的右手：“你們隨時(shí)做好準(zhǔn)備。”

    “是，陳總，時(shí)刻準(zhǔn)備著。”

    ……

    “陳總，我們的濕式光刻機(jī)沒想到真研發(fā)出來了。不過，陳總，您這塊可是瞞得我好苦。”

    “我也不想瞞你，但這種事情關(guān)系重大，除了中心國(guó)際的張如京與我，誰也不知道。而且，如果我愿意的話，我并不想讓我們的光刻機(jī)上馬這么快。至少，現(xiàn)在還不是特別好的時(shí)候。”

    “陳總，我明白你的意思。”

    對(duì)于環(huán)宇科技，張建明是除陳宇最為明白公司情況的。

    如果能夠再給環(huán)宇科技幾年時(shí)間發(fā)展，那可能很多事情就迎刃而解。
    第(1/3)頁(yè)