第(1/3)頁 劉林走到舞臺邊沿,看了看臺下,便道:“大家都知道光刻機是芯片制造的核心設備最重要的設備,沒有之一!” “如果按照用途可以分為好幾種!”劉林說完停了停,等臺一都把目光聚焦在息身上之后,便繼續道。 “有用于生產芯片的光刻機;有用于封裝的光刻機;還有用于Led制造領域的投影光刻機?!? “雖然我們國內也制造光刻機,但是用是生產芯片的光刻機是我們華國在半導體設備制造上最大的短板,我們國內晶圓廠所需的高端光刻機完全都是依賴進口?!眲⒘忠荒樞耐吹牡?。 不平的臉上還帶著莫名的表情。 “在芯片制造中,最重要的設備就是光刻機,而光刻機的源頭就是h蘭國的asmL!” “現階段,大家應該知道asmL已經成為光刻機的代名詞?!? “半導體行業有一句話,我不知道大家有沒有聽過:艾司摩爾(asmL)的技術到哪里,全球半導體的制程就在哪里?!? “這可不是空穴來風,可以其之強大?!? “雖然我們可以不服,但人家就在那里!” “如果我們華國想制造7nm及其以下的工藝的芯片,就必須引入euV光刻機。”劉林話頭一轉:“但是,人家就是不賣給我們?” “一臺設備賣上億,我們華國還要看人家臉色!”劉林的話變得有點沉重。 “而且更重要的是,我們給人家臉色,人家還不賣!” 劉林嘆了口氣,掃了眼臺下,搖了搖頭,又接著道:“雖然尼康和佳能也曾做過光刻機,但是近些年,尼康在asmL面前被打的毫無還手之力,高端光刻機市場基本被asmL占據?!? “如果我們用數據來說話,asmL的 euV nxe 335oB 單價過1億美元,arF Immersion售價大約在7ooo萬美元左右,如此昂貴的價格,我們有錢還買不到?!? “所以我就不信邪,自己親自設計了一臺!” “可能很多人都不知道光刻機工作原理!” “不過沒關系!”劉林說完,又接著道:“我給大家漲漲知識!” “光刻機,主要分成:測量臺、曝光臺:就是是承載硅片,我們俗話說的圓晶的工作臺?!? “激光器:也就是光源,光刻機核心設備之一,我們華國就造不出來?!? “光束矯正器,能量控制器,光束形狀設置,遮光器......” “在加工芯片的過程中,光刻機通過一系列的光源能量、形狀控制手段,將光束透射過畫著線路圖的掩模,經物鏡補償各種光學誤差,將線路圖成比例縮小后映射到硅片上,然后使用化學方法顯影,得到刻在硅片上的電路圖?!? “一般的光刻工藝要經歷硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻膠、軟烘、對準曝光、后烘、顯影、硬烘、激光刻蝕等工序。經過一次光刻的芯片可以繼續涂膠、曝光。” “越復雜的芯片,線路圖的層數越多,也需要更精密的曝光控制過程。” “可能大家不是專業,不知道,光刻機的波長越短,可曝光的特征尺寸就越小,波長越短,就表示光刻的刀鋒越鋒利,刻蝕對于精度控制要求越高?!? “還有就是離子束比激動束,有著非常大的能量,能量越大,曝光時間就越短?!? “而我設計的光刻機,不管是在支持基片的尺寸范圍,分辨率、對準精度、曝光方式、光源波長、光強均勻性、生產效率等,理論上都比asmL的 euV nxe 335oB強!” “他的可見g線:rF 準分子離子束:48 nm, arF 準分子離子束:23 nm!” “它可以加工2nm的精度!” 2nm的精度? 不會是亂報的吧? 怎么可能有這么高的精度? 真的假的? 劉林前面說的技術,可能自己不是專業聽不明白,但是最后果的可以2nm的精度還是明白的! 要知道現在就世界上最牛的光刻機最高精度,是h蘭國的,好像是5nm? 現在你跟我說你設計的光刻機加工精度達到2nm?確認沒搞錯? 忽悠人也不是這么忽悠的吧! 一個個雖然心里不怎么相信,但也學乖了,剛才差點被劉林玩壞掉! 這次不長我個心眼是不行了! 要知道臺眼地操蛋的家伙,有時候真的好想上去打他一頓,簡直是坑死人不償命。 要是再長多個心眼,遲早給玩死。 所以還是乖乖地當一個三好學生,等劉林繼續... 你繼續表現,現在你是老大,你說了算,你想怎么表演就怎么表演。 還不行嘛。 五老板在中午的時候就收到相關的信息,自然不會太多的表示。 而莎女士現在有點為m國跟h蘭國感到悲哀了! 而h蘭國,可以說是無辜中槍??! 可以說是倒大霉了。 誰讓你沒事跟m國混的! 能怪誰? 所以... 這下炮彈砸到了吧,真是晴天霹靂,禍從天降啊。 不過這跟自己可沒關系,反正自己國家又不制造芯片,你們慢慢的跟華國打吧! 沒事你找人家麻煩干什么? 現在好啦,人家一個個技不要錢的往外丟,不把你弄得不死不活,就不罷休。 投降? 第(1/3)頁